超純水在太陽能行業(yè)、硅片切割行業(yè)的應(yīng)用半導(dǎo)體晶片切割制造用水工藝、半導(dǎo)體芯片清洗
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
電子管生產(chǎn) 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
顯像管和陰極射線管生產(chǎn) 配料用純水
純水設(shè)備黑白顯像管熒光屏生產(chǎn) 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
液晶顯示器的生產(chǎn) 屏面需用純水清洗和用純水配液
晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
二、典型工藝流程
預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
預(yù)處理-一級反滲透-加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM) (最新工藝)
預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
純水設(shè)備處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
三、達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)
顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)(經(jīng)驗數(shù)據(jù))
集成電路用純水水質(zhì)
國家電子級純水標(biāo)準(zhǔn)
美國SEMI標(biāo)準(zhǔn)
高純水的制備上。純水設(shè)備,實驗室純水設(shè)備,杭州純化水設(shè)備,杭州GMP純化水設(shè)備。 半導(dǎo)體純水設(shè)備。
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